易葵

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中国科学院上海光学精密机械研究所

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[发明专利] 宽光谱减反射薄膜的制备方法 - CN1752275A

申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所 申请年:20051021 主分类号:C23C14/54

一种宽光谱减反射薄膜的制备方法,该方法的实 质是采用镀膜机在制备薄膜的过程中不断改变薄膜基片与膜 料沉积的倾斜角度并利用膜料的自遮挡效应,一次性地镀制出 折射率从基底的折射率变化到空气折射率的

[发明专利] 计算机控制的电子束偏转设备 - CN1876889A

申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所 申请年:20060705 主分类号:C23C14/30

一种用于光学镀膜的电子束蒸发系统的计算机 控制的电子束偏转设备,包括一具有X方向偏转线圈和Y方 向偏转线圈组成的偏转线圈组,其特点是还有一台程 序控制计算机和一台由数字电位器构成的偏转调节装置

[发明专利] 宽量程直接引拉法薄膜附着力测量装置 - CN1912577A

申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所 申请年:20060904 主分类号:G01N19/04

一种宽量程直接引拉法薄膜附着力测量装置,由 杠杆、固定小柱、测量小柱、压盖、立柱、横梁、螺杆、螺母、 弹簧组成并固定在一个平台上,杠杆一端设有端面槽口和中槽 孔,分别用来连接固定小柱和测量小柱

[发明专利] 磁控溅射镀膜机的永磁枪靶装置 - CN1944707A

申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所 申请年:20060927 主分类号:C23C14/35

一种磁控溅射镀膜机的永磁枪靶装置,包括溅射 靶材阴极、阳极及磁铁部件,其特征在于所述的磁铁部件是由 许多的小的具有保护套的按一定形状排列不直接与冷却水接 触的圆柱形磁铁构成的。本发明既保证了磁

[发明专利] 高精度薄膜应力实时测量装置及测量方法 - CN1971248A

申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所 申请年:20061117 主分类号:G01N21/19

本发明提供一种高精度薄膜应力实时测量装置 及测量方法,该装置由He-Ne激光器、反射镜、光电位敏探 测器、A/D数据采集卡和计算机组成。整个装置可以方便地安 装在任一镀膜机上,He-Ne激光器

[实用新型] 高精度薄膜应力实时测量装置 - CN200972452Y

申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所 申请年:20061117 主分类号:G01N21/19

本实用新型提供一种高精度薄膜应力实时测量装置,该装置由He-Ne激光器、反射镜、光电位敏探测器、A/D数据采集卡和计算机组成。整个装置可以方便地安装在任一镀膜机上,He-Ne激光器、光电位敏探

[发明专利] 紫外薄膜滤光片 - CN104020519A

申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所 申请年:20140428 主分类号:G02B5/28

一种紫外薄膜滤光片,其特点在于包括紫外透明基片,制备在该透明基片一面的滤光膜层和另一面的增透膜层,所述的滤波膜层包含了金属Al膜、Al2O3膜和Si

[发明专利] 高温环境下光学元件激光损伤阈值测试装置和测试方法 - CN104634539B

申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所 申请年:20150116 主分类号:G01M11/02

一种高温环境下光学元件激光损伤阈值测试装置和测试方法,其特点是,在传统的光学元件抗激光损伤阈值测试光路的测试平台上固定特殊设计的高温箱,被测光学元件样品置于高温箱内部,高温箱通过加热板及温度控

[发明专利] 光学薄膜元件包装盒 - CN108455023A

申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所 申请年:20180117 主分类号:B65D25/02

一种光学薄膜元件包装盒,包括盒体和盒盖,所述的盒体具有外侧壁和较侧壁为宽的底板,内底上设置有凹面、凹槽和凸台;所述的盒盖具有内侧壁和内侧壁之底外延的底板,盒盖顶部为圆角;所述盒盖的内侧壁扣在所

[发明专利] 综合沉积镀膜设备及综合镀膜方法 - CN108342699B

申请人:中国科学院上海光学精密机械研究所 申请年:20180211 主分类号:C23C14/30

一种电子束蒸发、离子束辅助与离子束溅射综合沉积镀膜设备及综合镀膜方法,设备包括由左电子枪坩埚、右电子枪坩埚、离子源辅源、离子源主源、溅射靶材和夹具盘组成的综合沉积系统。本发明结合了电子束蒸发沉
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齐红基   合作次数:26

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