布图设计名称 ---【 基于和舰0.35μm工艺的高频率分辨率直接数字频率合成器版图 】

基本信息
布图设计登记号
BS.075002744
布图设计申请日
2007年09月25日
公告日期
2008年01月16日
公告号
1519
布图设计权利人
中国科学院半导体研究所
布图设计创作人
袁凌、倪卫宁、石寅
结构
MOS
技术
CMOS
功能
其他
布图设计权利人省市
北京
布图设计权利人地址
中国北京市海淀区清华东路甲35号
代理机构
中科专利商标代理有限责任公司
代理人
王玮
布图设计创作完成日
2007年04月20日
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