胡松

胡松    

中国科学院光电技术研究所

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[发明专利] 一种对投影光刻机步进及扫描运动轨迹的规划方法 - CN102236269A

申请人:中国科学院光电技术研究所 申请年:2011.07.21 主分类号:G03F7/20(2006.01)I

本发明是一种对投影光刻机步进及扫描运动轨迹的规划方法,其规划步骤如下:根据步进扫描投影光刻机系统给定的步进以及扫描运动的约束条件,计算各自的限制值,算出关键的时间变量,进而算出各时间切换点,再

[发明专利] 一种适用于双工件台投影光刻机的检焦装置 - CN102236270A

申请人:中国科学院光电技术研究所 申请年:2011.07.29 主分类号:G03F7/20(2006.01)I

本发明提供一种适用于双工件台投影光刻机的检焦装置,该装置包含激光器、聚焦光学单元、力检测单元、位置检测单元、六自由度工件台、硅片、差分放大器、Z向反馈控制单元、扫描信号发生器、三维形貌数据存储

[实用新型] 一种用于检焦系统中的光线倾角调节机构 - CN202256839U

申请人:中国科学院光电技术研究所 申请年:2011.10.25 主分类号:G02B7/18(2006.01)I

本实用新型公开了一种用于检焦系统中的光线倾角调节机构,该机构经固定孔(9)固定在基板(8)上,整体机构为L形,调节时通过向顶压孔(10)和对拉孔(11)分别施加向下和向上的作用力,结合半径为R

[发明专利] 自适应全反射极紫外投影光刻物镜 - CN1466001

申请人:中国科学院光电技术研究所 申请年:2002.06.24 主分类号:G02F1/03

自适应全反射极紫外EUV(Extreme Ultraviolet)投 影光刻物镜,可用于EUV投影光刻机中,它包括2-4片球面 或非球面反射镜和一片变形反射镜构成的投影光学系统及成 像探测器和

[发明专利] 恒定光源步进扫描实现大面积光刻方法及其光刻装置 - CN1503063

申请人:中国科学院光电技术研究所 申请年:2002.11.26 主分类号:G03F7/22

恒定光源步进扫描实现大面积光刻的方法,利用 光源步进扫描,扫描单元为高均匀度、恒功率小光源,沿X方 向扫描,沿Y方向步进拼接来实现,扫描单元的形状为一对锐 角小于60度的平行四边形。恒定光源步

[发明专利] 一种单幅封闭条纹相位提取方法 - CN102073220A

申请人:中国科学院光电技术研究所 申请年:2010.12.08 主分类号:G03F7/20(2006.01)I

一种单幅封闭条纹相位提取方法,包括步骤:条纹图像噪声滤波、通过小波脊提取相位和移除符号不确定性,其中相位提取方法中通过构造具有很好的尺度和角度方向选择性的二维解析小波函数,能同时对封闭条纹进行

[发明专利] 一种基于FPGA的DMD数字无掩模光刻机工件台控制系统 - CN102629081A

申请人:中国科学院光电技术研究所 申请年:2012.04.13 主分类号:G03F7/20(2006.01)I

本发明公开了一种基于FPGA的DMD数字无掩模光刻机工件台控制系统,该控制系统通过通讯接口接收主控计算机发送的指令和数据,并按照主机的指令控制工件台进行相应的运动,从而完成实时定位及调焦等过程

[发明专利] 一种掩模光栅对准标记倾斜成像的消除方法 - CN102799080A

申请人:中国科学院光电技术研究所 申请年:2012.09.03 主分类号:G03F7/20(2006.01)I

本发明提供一种掩模光栅对准标记倾斜成像的消除方法,包括步骤:对倾斜条纹进行傅里叶变换、相位提取、相位展开、45°和135°条纹空间频率计算、条纹倾角计算、调整CCD图像探测器。采用CCD图像探

[发明专利] 一种逆向照明接近接触纳米光刻装置 - CN101216683

申请人:中国科学院光电技术研究所 申请年:2008.01.11 主分类号:G03F7/20(2006.01)I

一种逆向照明接近接触纳米光刻装置包括:基片、光刻胶、金属掩模版和均匀准直 照明系统;在基片上面涂有光刻胶,在光刻胶接近接触放置金属掩模版,当均匀准直照 明系统逆向照明,从基片侧向入射到基片上,

[发明专利] 一种具有面积微分的球面光刻系统 - CN101216684

申请人:中国科学院光电技术研究所 申请年:2008.01.17 主分类号:G03F7/20(2006.01)I

一种具有面积微分的球面光刻系统,由光源、照明系统、掩模图形发生器、计算机 控制系统、投影成像系统和载物台组成;光源提供照明光,该照明光通过照明系统平行 均匀化后,照明掩模图形发生器,计算机控制
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唐小萍   合作次数:30

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严伟   合作次数:43

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周毅   合作次数:29

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赵立新   合作次数:80

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邢薇   合作次数:31

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