标准名称 ---【 掩模曝光系统精密度和准确度的表示准则 】

基本信息
标准号
GB/T 16879-1997
发布日期
1997-06-20
发布单位
CN-GB
实施或试行日期
1998-03-01
确认日期
2004-10-14
国际标准分类
31.020
起草单位
中国科学院微电子中心
标准类型
CJ
标准水平
A
正文语种
汉语
英文标准名称
Guidelines for precision and accuracy expression for mask writing equipment
载体形态
5P.;A4
采用关系
SEMI P21-1992,IDT
中文主题词
集成电路工艺;精密度;准确度;手册;掩模曝光系统;光掩模
英文主题词
mask writing equipment;manuals;handbooks;integrated circuit technology;accuracy;photomask;precision
排序码
GB 16879 1997 000 000 000


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