标准名称 ---【 掩模缺陷检查系统灵敏度分析所用的特制缺陷掩模和评估测量方法准则 】
| 基本信息 | |||
|---|---|---|---|
标准号 |
GB/T 17866-1999 | ||
发布日期 |
1999-09-13 | ||
发布单位 |
CN-GB | ||
实施或试行日期 |
2000-06-01 | ||
确认日期 |
2004-10-14 | ||
国际标准分类 |
31.200 | ||
起草单位 |
中国科学院微电子中心 | ||
标准类型 |
CF | ||
标准水平 |
B | ||
正文语种 |
汉语 | ||
英文标准名称 |
Guideline for programmed defect masks and benchmark procedures for sensitivity analysis of mask defect inspection systems | ||
载体形态 |
13P.;A4 | ||
采用关系 |
SEMI P23-1993,IDT | ||
中文主题词 |
缺陷与故障;缺陷;评估;无损检验 | ||
英文主题词 |
non-destructive testing;nondestructive tests;objection;defects;defects | ||
排序码 |
GB 17866 1999 000 000 000 | ||
