专利名称 ---【 全息底片过曝光的挽救方法 】

基本信息
申请号
CN200410066392.8
申请日
2004.09.15
公开(公告)号
CN1588239
公开(公告)日
2005.03.02
申请(专利权)人
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址
201800上海市800-211邮政信箱
发明人
陈建文;高鸿奕;徐至展; 专利类型 发明专利
摘要
一种全息底片过曝光的挽救方法,该方法包括以 下四个步骤:在暗室中,将含有全息图的过曝光底片的乳剂面 和一未感光的底片非乳剂面重叠,并压在两块干净的玻璃板之 间;将上述重叠的底片用不同的曝光时间曝光,通常是1秒钟 至5秒钟,曝光5张底片形成再生的全息底片;将上述再生的 全息图底片显影、定影后晾干;从再生全息图中选择出一张曝 光量合适的底片,进行光学重构或数字重构,可以获得较清晰 的全息图重构像。
主权项
1、一种全息底片过曝光的挽救方法,其特征在于该方法包括以下四 个步骤: 1)在暗室中,将含有全息图的过曝光底片的乳剂面和一未感光的底 片非乳剂面重叠,并压在两块干净的玻璃板之间; 2)将上述重叠的底片用不同的曝光时间曝光,通常是1秒钟至5 秒钟,曝光5张底片形成再生的全息底片; 3)将上述再生的全息图底片显影、定影后晾干; 4)从再生全息图中选择出一张曝光量合适的底片,进行光学重构或 数字重构,就可以获得清晰的全息图重构像。

 

IPC信息
IPC主分类号
G03H1/04
IPC分类号
G03H1/04;G03H1/22;G03H1/00

 

法律状态信息
法律状态公告日
2010.12.01
法律状态
专利权的终止 法律状态信息
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03H 1/04 申请日:20040915 授权公告日:20080702 终止日期:20091015
法律状态公告日
2008.07.02
法律状态
授权 法律状态信息
授权
法律状态公告日
2005.05.04
法律状态
实质审查的生效 法律状态信息
实质审查的生效
法律状态公告日
2005.03.02
法律状态
公开 法律状态信息
公开

 

代理信息
代理机构名称
上海新天专利代理有限公司
代理人姓名
张泽纯
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