专利名称 ---【 全息底片过曝光的挽救方法 】

基本信息
申请号
CN200410066392.8
申请日
2004.09.15
公开(公告)号
CN1588239
公开(公告)日
2005.03.02
申请(专利权)人
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址
201800上海市800-211邮政信箱
发明人
陈建文;高鸿奕;徐至展; 专利类型 发明专利
摘要
一种全息底片过曝光的挽救方法,该方法包括以 下四个步骤:在暗室中,将含有全息图的过曝光底片的乳剂面 和一未感光的底片非乳剂面重叠,并压在两块干净的玻璃板之 间;将上述重叠的底片用不同的曝光时间曝光,通常是1秒钟 至5秒钟,曝光5张底片形成再生的全息底片;将上述再生的 全息图底片显影、定影后晾干;从再生全息图中选择出一张曝 光量合适的底片,进行光学重构或数字重构,可以获得较清晰 的全息图重构像。
主权项
1、一种全息底片过曝光的挽救方法,其特征在于该方法包括以下四 个步骤: 1)在暗室中,将含有全息图的过曝光底片的乳剂面和一未感光的底 片非乳剂面重叠,并压在两块干净的玻璃板之间; 2)将上述重叠的底片用不同的曝光时间曝光,通常是1秒钟至5 秒钟,曝光5张底片形成再生的全息底片; 3)将上述再生的全息图底片显影、定影后晾干; 4)从再生全息图中选择出一张曝光量合适的底片,进行光学重构或 数字重构,就可以获得清晰的全息图重构像。

 

IPC信息
IPC主分类号
G03H1/04
IPC分类号
G03H1/04;G03H1/22;G03H1/00

 

法律状态信息
法律状态公告日
2010.12.01
法律状态
专利权的终止 法律状态信息
未缴年费专利权终止 IPC(主分类):G03H 1/04 申请日:20040915 授权公告日:20080702 终止日期:20091015
法律状态公告日
2008.07.02
法律状态
授权 法律状态信息
授权
法律状态公告日
2005.05.04
法律状态
实质审查的生效 法律状态信息
实质审查的生效
法律状态公告日
2005.03.02
法律状态
公开 法律状态信息
公开

 

代理信息
代理机构名称
上海新天专利代理有限公司
代理人姓名
张泽纯

 

被引专利信息
引用阶段 被引时间 专利号 申请人 公开时间

 

被引非专利信息
引用阶段 被引时间 被引文档类型 被引文档信息
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