专利名称 ---【 X射线散斑装置及其在微位移测量中的应用 】

基本信息
申请号
CN200510023203.3
申请日
20050110
公开(公告)号
CN100398981C
公开(公告)日
20050629
申请(专利权)人
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址
201800上海市800-211邮政信箱
发明人
陈建文;高鸿奕;李儒新;朱化凤;干慧菁;徐至展; 专利类型 发明专利
摘要
一种X射线散斑装置及其在微位移测量中的应用,所述的X射线散斑装置包括X射线散斑成像装置和读出装置两部分,所述的X射线散斑成像装置由X射线源、待测物、微波带片和记录介质组成,所述的的待测物置于X射线源输出的光路上,该待测物的法线与X射线光轴成一夹角θ,所述的微波带片和记录介质与待测物的法线同轴,所述的读出装置由同轴放置的He-Ne激光器、记录有散斑图样的照片和成像屏组成。本发明的X射线散斑装置工作在X射线波段,测试精度较可见光要高3~4数量级,由于采用微波带片预放大,结构非常简单,具有很高的学术价值和应用前景,将填补微位移测量的空白。
主权项
1.一种X射线散斑装置,其特征在于该装置包括X射线散斑成像 装置和读出装置,所述的X射线散斑成像装置由相干硬X射线源(1)、 待测物(2)、微波带片(3)和记录介质(4)组成,所述的待测物(2) 置于相干硬X射线源(1)输出的光路上,该待测物(2)的法线与X射 线光轴成一夹角θ,所述的微波带片(3)和记录介质(4)与待测物(2) 的法线同轴,所述的读出装置由同轴放置的He-Ne激光器(5)、记录 有散斑图样的照片(6)和成像屏(7)组成,所述的相干硬X射线源(1) 是一台同步辐射源,或者X射线微聚焦管,波长从0.1到10;所述 的待测物(2)是一种表面起伏在10以上的光学表面;所述的微波带 片(3)是一块波带数大于500的成像波带片;所述的待测物(2)的法 线与X射线光轴所成夹角θ的取值范围为10-50°。

 

IPC信息
IPC主分类号
G01B11/02

 

法律状态信息
法律状态公告日
20120321
法律状态
专利权的终止 法律状态信息
CN200510023203 20120321 专利权的终止 未缴年费专利权终止IPC(主分类):G01B 11/02申请日:20050110授权公告日:20080702终止日期:20110110
法律状态公告日
20080702
法律状态
授权 法律状态信息
CN200510023203 20080702 授权 授权
法律状态公告日
20050824
法律状态
实质审查的生效 法律状态信息
CN200510023203 20050824 实质审查的生效
法律状态公告日
20050629
法律状态
公开 法律状态信息
CN200510023203 20050629 公开 公开

 

代理信息
代理机构名称
上海新天专利代理有限公司
代理人姓名
张泽纯

 

被引专利信息
引用阶段 被引时间 专利号 申请人 公开时间

 

被引非专利信息
引用阶段 被引时间 被引文档类型 被引文档信息
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