专利名称 ---【 全光纤斐索干涉共焦测量装置 】

基本信息
申请号
CN200720067317.2
申请日
2007.02.13
公开(公告)号
CN201043884
公开(公告)日
2008.04.02
申请(专利权)人
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址
201800上海市800-211邮政信箱
发明人
蔡海文;陈高庭;方祖捷; 专利类型 实用新型
摘要
一种用于微纳器件的表面形貌和层面厚度进行高精度测量的全光纤斐索干涉共 焦测量装置,构成为:第一半导体激光器和第二半导体激光器的输出端分别和光纤 合波器的第一端口、第二端口相连,该光纤合波器的第三端口和光纤导光元件的第 一端口相连,该光纤导光元件的第三端口和探头光纤相连,该探头光纤上靠近输出 端面写有第一光纤光栅,所述的第一光纤光栅的衍射光经自聚焦透镜照射在处于三 维扫描平台上的待测样品上,所述的光纤导光元件的第二端口和光纤分束器的第一 端口相连,该光纤分束器的第三端口和第四端口分别和第三光纤光栅及第二光纤光 栅相连,第二光纤光栅的输出端和第一光电探测器相连,第三光纤光栅的输出端和 第二光电探测器相连。
主权项
1、一种全光纤斐索干涉共焦测量装置,特征在于其构成为: 第一半导体激光器(1)和第二半导体激光器(2)的输出端分别和光纤合波器 (3)的第一端口(31)、第二端口(32)相连,该光纤合波器(3)的第三端口(33) 和光纤导光元件(4)的第一端口(41)相连,该光纤导光元件(4)的第三端口(43) 和探头光纤(5)相连,该探头光纤(5)上靠近输出端面写有第一光纤光栅(6), 所述的第一光纤光栅(6)的衍射光经自聚焦透镜(7)照射在处于三维扫描平台(8) 上的待测样品(14)上,所述的光纤导光元件(4)的第二端口(42)和光纤分束器 (9)的第一端口(91)相连,该光纤分束器(9)的第三端口(93)和第四端口(94) 分别和第三光纤光栅(11)及第二光纤光栅(10)相连,第二光纤光栅(10)的输 出和第一光电探测器(12)相连,第三光纤光栅(11)和第二光电探测器(13)相 连。

 

IPC信息
IPC主分类号
G01B11/00(2006.01)I
IPC分类号
G01B11/00(2006.01)I;G01B11/02(2006.01)I;G01B11/24(2006.01)I;G01B11/06(2006.01)I;G01B9/023(2006.01)I;G02B6/34(2006.01)I

 

法律状态信息
法律状态公告日
2009.04.08
法律状态
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权) 法律状态信息
其他有关事项(避免重复授权放弃专利权) 放弃生效日: 2007.2.13
法律状态公告日
2008.04.02
法律状态
授权 法律状态信息
授权

 

代理信息
代理机构名称
上海新天专利代理有限公司
代理人姓名
张泽纯

 

被引专利信息
引用阶段 被引时间 专利号 申请人 公开时间

 

被引非专利信息
引用阶段 被引时间 被引文档类型 被引文档信息
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