专利名称 ---【 菲涅尔 达曼波带片 】

基本信息
申请号
CN201610562981.8
申请日
20160718
公开(公告)号
CN106054295A
公开(公告)日
20161026
申请(专利权)人
中国科学院上海光学精密机械研究所
申请人地址
201800 上海市嘉定区上海市800-211邮政信箱
发明人
张军勇;叶超超;马雅尧;柯杰;孙美智;朱健强; 专利类型 发明专利
摘要
一种菲涅尔 达曼波带片,由透明介质、不透光金属薄膜和环状波带结构组成,在传统的菲涅尔波带片结构上引入达曼调制技术,本发明菲涅尔 达曼波带片是一系列同心圆环结构,在平面波照明下,不需要额外的聚焦透镜,可以实现轴向多个等强度的环形阵列焦斑分布。本发明易于加工和复制,可以应用于水窗波段、光学成像和生物医学等领域。
主权项
一种菲涅尔-达曼波带片,其特征在于:该波带片在透明介质(1)、镀上不透光金属薄膜(2),在金属薄膜上刻蚀出一系列同心圆环(3)而成,所述的同心圆环的第m环半径为:rm=[(mλ/2)2+mλf]1/2,λ是设计波长,f是参考焦距;所述的两个同心圆环之间刻蚀的地方为透明波带,其他地方不透明;根据在焦平面产生多环光斑需要按下列规则选取刻蚀区域,所述的m为正整数:产生2环光斑:将整个波带片分为两个区域,自内向外依次的归一化半径为0.715和1.000,在0.715倍半径以内,选取奇数环带为刻蚀区域,在0.715倍半径以外到1倍半径以内,选取偶数带为刻蚀区域;产生3环光斑:将整个波带片分为三个区域,自内向外依次的归一化半径为0.242、0.662和1.000,在0.242倍半径以内和0.662倍半径以外,选取奇数环带为刻蚀区域,其余区域,选取偶数带为刻蚀区域。

 

IPC信息
IPC主分类号
G02B5/18

 

法律状态信息
法律状态公告日
20180508
法律状态
授权 法律状态信息
CN201610562981 20180508 授权 授权
法律状态公告日
20161123
法律状态
实质审查的生效 法律状态信息
CN201610562981 20161123 实质审查的生效 实质审查的生效IPC(主分类):G02B 5/18申请日:20160718
法律状态公告日
20161026
法律状态
公开 法律状态信息
CN201610562981 20161026 公开 公开

 

代理信息
代理机构名称
上海新天专利代理有限公司 31213
代理人姓名
张泽纯;张宁展

 

被引专利信息
引用阶段 被引时间 专利号 申请人 公开时间
SEA null CN102062887A SHANGHAI INST OPTICS & FINE ME 20110518
SEA null CN1441264A SHANGHAI INST OPTICS & FINE ME [CN] 20030910
SEA null JP2003014915A JAPAN SCIENCE & TECH CORP, et al 20030115
SEA null US5828491A NEUMAN BILL [US], et al 19981027

 

被引非专利信息
引用阶段 被引时间 被引文档类型 被引文档信息


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