专利名称 ---【 选择性刻蚀铁电基光催化材料以定向构筑异质结构的方法 】

基本信息
申请号
CN201610801007.2
申请日
2016.09.05
公开(公告)号
CN107790194A
公开(公告)日
2018.03.13
申请(专利权)人
中国科学院金属研究所
申请人地址
110016 辽宁省沈阳市沈河区文化路72号
发明人
刘岗;马丽;甄超;杨勇强;成会明
专利类型
发明专利
摘要
本发明涉及光催化领域,具体为一种选择性刻蚀铁电基光催化材料以定向构筑异质结构的方法。利用半导体铁电材料(钛酸钡、钛酸铅、铁酸铋等)中的铁电场诱导表面带电属性的差异,导致带负电性的酸根离子优先选择性地吸附在带正电荷表面,实现对铁电材料表面选择性刻蚀定向构筑异质结构光催化剂。将半导体铁电材料放入含有刻蚀性酸的水溶液中,通过水热处理过程实现铁电材料表面的选择性刻蚀,在铁电基体材料表面定向构筑异质结构,调节酸的种类、浓度以及水热处理温度获得最优光催化性能。异质结构的定向构筑有利于光生载流子的定向分离,可有效提高异质结构的光催化活性,是光催化领域的重点研究方向。
主权项
一种选择性刻蚀铁电基光催化材料以定向构筑异质结构的方法,其特征在于:利用半导体铁电材料中的铁电场诱导表面带电属性的差异,导致带负电性的酸根离子优先选择性地吸附在带正电荷表面的特点,将半导体铁电材料放入含有刻蚀性酸的水溶液中,通过水热处理过程实现对铁电材料表面的选择性刻蚀,在铁电基体材料表面定向构筑异质结构。

 

IPC信息
IPC主分类号
B01J37/10(2006.01)I
IPC分类号
B01J37/10(2006.01)I;B01J37/03(2006.01)I;B01J23/14(2006.01)I;B01J23/02(2006.01)I;B01J23/843(2006.01)I

 

法律状态信息
法律状态公告日
2018.04.06
法律状态
实质审查的生效 法律状态信息
实质审查的生效 IPC(主分类):B01J 37/10 申请日:20160905
法律状态公告日
2018.03.13
法律状态
公开 法律状态信息
公开

 

代理信息
代理机构名称
沈阳优普达知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 21234
代理人姓名
张志伟
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