专利名称 ---【 一种抛光系统及抛光方法 】

基本信息
申请号
CN201910448429.X
申请日
2019.05.27
公开(公告)号
CN110065007A
公开(公告)日
2019.07.30
申请(专利权)人
中国科学院工程热物理研究所
申请人地址
100190 北京市海淀区北四环西路11号
发明人
姚俊; 丁若晨; 康振亚; 杜宝瑞; 郑会龙; 赵世迁; 文涛; 专利类型 发明专利
摘要
一种抛光系统,包括:电解液系统(100),用于向工具电极(200)提供电解质溶液,其中,电解质溶液中包括磨粒;工具电极(200),用于将电解质溶液喷射于待抛光物体(500)表面;电源(300),其正极连接待抛光物体(500),负极连接工具电极(200),以使待抛光物体(500)的表面在电解质溶液的作用下发生电化学反应并在磨粒作用下抛光;工控机(400),用于控制工具电极(200)的运动及与待抛光物体(500)之间的距离。另外,还提供了一种抛光方法。通过将电化学反应和磨粒流冲刷结合使用,磨粒一方面去除了电化学反应过程中的钝化层加速电化学反应,另一方面可冲刷待抛光物体(500)表面去除其表面的凸点,进而加速了抛光速度。
主权项
1.一种抛光系统,包括电解液系统(100)、工具电极(200)、电源(300)以及工控机(400),其中: 电解液系统(100),用于向所述工具电极(200)提供电解质溶液,其中,所述电解质溶液中包括磨粒; 工具电极(200),用于将所述电解质溶液喷射于待抛光物体(500)表面; 电源(300),其正极连接所述待抛光物体(500),负极连接所述工具电极(200),以使所述待抛光物体(500)的表面在所述电解质溶液的作用下发生电化学反应并在磨粒作用下抛光; 工控机(400),用于控制所述工具电极(200)的运动及与所述待抛光物体(500)之间的距离。

 

IPC信息
IPC主分类号
B24C3/04
IPC分类号
B24C3/04; B24C1/08; B24C9/00; B24C11/00; C25F3/16; C25F7/00

 

法律状态信息
法律状态公告日
2019.08.23
法律状态
实质审查的生效 法律状态信息
实质审查的生效IPC(主分类):B24C 3/04
法律状态公告日
2019.07.30
法律状态
公开 法律状态信息
公开

 

代理信息
代理机构名称
中科专利商标代理有限责任公司 11021
代理人姓名
周天宇

 

被引专利信息
引用阶段 被引时间 专利号 申请人 公开时间

 

被引非专利信息
引用阶段 被引时间 被引文档类型 被引文档信息
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